鋁型材發(fā)花的原因
導致鋁型材陽極氧化染色后表面發(fā)花主要原因有以下幾條:
1.工件前處理堿洗不夠徹底。
2.染色熔液溫度過低?! ?/span>
3.染色溶液表面有油污。
4.膜層未退凈的返工品?! ?/span>
5.氧化膜被污染?! ?/span>
6.氧化后水洗不夠徹底,未清洗干凈?! ?/span>
7.鋁型材陽極氧化時電流密度過大?!?/span>
8.陽極氧化溶液溫度過低,電流密度過小?!?/span>
9.鋁型材陽極氧化溶液溫度過高。
鋁及鋁合金的氧化處理的方法主要有兩類:
①化學氧化,氧化膜較薄,厚度約為0.5~4微米,且多孔,質(zhì)軟,具有良好的吸附性,可作為有機涂層的底層,但其耐磨性和抗蝕性能均不如陽極氧化膜;②電化學氧化,氧化膜厚度約為5~20微米(硬質(zhì)陽極氧化膜厚度可達60~200微米),有較高硬度,良好的耐熱和絕緣性,抗蝕能力高于化學氧化膜,多孔,有很好的吸附能力 選擇適合客戶要求的氧化方法,提高產(chǎn)品成品質(zhì)量。
氧化染色原理
眾所周知,陽極氧化膜是由大量垂直于金屬表面的六邊形晶胞組成,每個晶胞中心有一個膜孔,并具有極強的吸附力,當氧化過的鋁制品浸入染料溶液中,染料分子通過擴散作用進入氧化膜的膜孔中,同時與氧化膜形成難以分離的共價鍵和離子鍵。這種鍵結(jié)合是可逆的,在一定條件下會發(fā)生解吸附作用。因此,染色之后,必須經(jīng)過封孔處理,將染料固定在膜孔中,同進增加氧化膜的耐蝕、耐磨等性能。2 陽極氧化工藝對染色的影響 在氧化染色整個流程中,因為氧化工藝原因造成染色不良是比較普遍的。氧化膜的膜厚和孔隙均勻一致是染色時獲得均勻一致顏色的前提和基礎,為獲得均勻一致的氧化膜,保證足夠的循環(huán)量,冷卻量,保證良好的導電性是舉足輕重的,此外就是氧化工藝的穩(wěn)定性。 硫酸濃度,控制在180—200g/l。稍高的硫酸濃度可促進氧化膜的溶解反應加快,利于孔隙的擴張,更易于染色; 鋁離子濃度,控制在5—15 g/l。鋁離子小于5g/l,生成的氧化膜吸附能力降低,影響上色速度,鋁離子大于15 g/l時,氧化膜的均勻性受到影響,容易出現(xiàn)不規(guī)則的膜層。 氧化溫度,控制在20℃左右,氧化槽液的溫度對染色的影響非常顯著,過低的溫度致使氧化膜的膜孔致密,染色速度顯著減緩;溫度過高,氧化膜蔬松,容易粉化,不利于染色的控制,氧化槽的溫差變化應在2℃以內(nèi)為宜。 電流密度,控制在120—180a/m2。電流密度過大,在膜厚一定的情況下,就要相應地縮短鋁制品在槽中的電解時間,這樣,氧化膜在溶液中的溶解減少,膜孔致密,染色時間加長。同時,膜層容易粉化。 膜厚,染色要求氧化膜厚度一般在10μm以上沖溶液。
膜厚過低,染色容易出現(xiàn)不均勻現(xiàn)象,同時在要求染深色顏色(如黑色)時,因為膜厚不夠,導致染料的沉積量有限,無法達到要求的顏色深度。 總而言之,陽極氧化作為染色的前工序,是染色的基礎。陽極氧化的問題在染色之前,我們很難看到或者根本無法看到,一旦染上色之后,我們會清晰地看到諸如顏色不均勻的現(xiàn)象。而此時,生產(chǎn)工作者往往會把問題的原因歸于染色的不正常,而忽略在氧化工藝上尋找原因。我在剛接觸氧化染色時就常犯這些錯誤。